China zeigt EUV-Prototyp – Serienreife noch Jahre entfernt

Am Stand der Firma Langdao Silex auf der 26. China International Industry Fair (CIIF) steht ein Gerät, das noch nicht fertig ist: ein Lasersystem, das Zinntröpfchen bis zu 20.000-mal pro Sekunde beschießt. Das Unternehmen ist erst zwei Jahre alt, und es will eine passende Lichtquelle für heimische Lithografie-Systeme liefern.

Das Prinzip orientiert sich am Marktführer ASML. Ein Laser trifft ein Zinntröpfchen, das Zinn wird so heiß, dass es zu Plasma wird, und dieses Plasma sendet extrem-ultraviolettes Licht aus. Dieses Licht, mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern bei ASML, wird über zahlreiche Spiegel auf eine Maske gelenkt, die die Transistorpläne trägt, und von dort auf den Siliziumwafer projiziert. Jedes Spiegelelement schluckt Licht, deshalb kommen am Wafer nur wenige Watt an. Bei ASML liefert der Laser, ein CO₂-Laser von Trumpf, ausgehend von wenigen Watt über fünf Verstärkerstufen 40.000 Watt. Das Ergebnis sind 600 Watt EUV-Lichtleistung, und das komplette Konstrukt wiegt mehr als 17 Tonnen.

Der chinesische Prototyp, der FlintNano LPP-OXXO, kommt auf mehr als 15 Watt EUV-Leistung. Ob diese Zahl vergleichbar ist, bleibt offen: Die Firma nennt keine Wellenlänge, und die Angabe stammt von ihr selbst. Laut Berichten räumten auch Mitarbeiter am Stand ein, dass die Serienreife noch drei bis fünf Jahre entfernt ist. Die größten Probleme sind laut Messepersonal die Ausgangsleistung und die Langzeitstabilität; der Hersteller selbst nennt einen Dauerbetrieb von mehr als 100 Stunden. Die Laser sollen zu 90 Prozent aus chinesischen Komponenten bestehen.

Was heißt das konkret? Für chinesische Chiphersteller und Maschinenbauer ist der Prototyp ein Signal: Die Lieferkette soll nicht länger allein beim niederländischen Konzern liegen, der wegen der Exportbeschränkungen nur ältere Systeme verkaufen darf. Für Nutzer von Smartphones und Computern ändert sich vorerst nichts. ASML und seine Partner brauchten mehrere Jahre, um EUV-Lithografie überhaupt langzeittauglich zu machen, unter anderem gegen Verunreinigungen durch Zinnspritzer und den starken Verschleiß der Belichtungsmasken. Ein Prototyp mit 15 Watt ist davon noch ein gutes Stück entfernt.

Der Zeitrahmen ist deshalb der eigentliche Maßstab. Zeiss-Chef Frank Rohmund, dessen Firma als einzige weltweit die hochreinen Spiegel für ASML herstellt, schätzt, dass bis China alle Komponenten in Serie fertigen und die Produktionsprobleme gelöst hat, noch 15 Jahre vergehen könnten. Für die Lichtquelle von Langdao Silex heißt das: Ein Ergebnis in der Messehalle ist ein erster Schritt, ob daraus Produktionssysteme werden, entscheidet sich über Jahre.