China muestra un prototipo de EUV; la serie llegará en años

En el stand de la empresa Langdao Silex, en la 26.ª edición de la China International Industry Fair (CIIF), se exhibe un equipo que todavía no está terminado: un sistema láser que dispara gotas de estaño hasta 20.000 veces por segundo. La compañía tiene solo dos años de vida y pretende suministrar una fuente de luz adecuada para los sistemas de litografía nacionales.

El principio se inspira en el líder del mercado, ASML. Un láser impacta en una gota de estaño, el estaño se calienta tanto que se convierte en plasma, y este plasma emite luz ultravioleta extrema. Esta luz, con una longitud de onda de 13,5 nanómetros en ASML, se dirige mediante numerosos espejos hacia una máscara que contiene los diseños de los transistores, y desde allí se proyecta sobre la oblea de silicio. Cada elemento de espejo absorbe luz, por lo que solo llegan a la oblea unos pocos vatios. En ASML, el láser, un láser de CO₂ de Trumpf, parte de unos pocos vatios y, tras cinco etapas de amplificación, alcanza 40.000 vatios. El resultado son 600 vatios de potencia lumínica EUV, y la construcción completa pesa más de 17 toneladas.

El prototipo chino, el FlintNano LPP-OXXO, alcanza más de 15 vatios de potencia EUV. No está claro si esta cifra es comparable: la empresa no indica ninguna longitud de onda, y el dato procede de ella misma. Según informes, empleados del stand también reconocieron que la madurez para la producción en serie está todavía a entre tres y cinco años. Según el personal de la feria, los mayores problemas son la potencia de salida y la estabilidad a largo plazo; el propio fabricante menciona un funcionamiento continuo de más de 100 horas. Los láseres deberían estar compuestos en un 90 % por componentes chinos.

¿Qué significa esto en la práctica? Para los fabricantes chinos de chips y de maquinaria, el prototipo es una señal: la cadena de suministro no debería seguir dependiendo solo del grupo neerlandés, que, por las restricciones a la exportación, solo puede vender sistemas más antiguos. Para los usuarios de teléfonos inteligentes y ordenadores, de momento no cambia nada. ASML y sus socios necesitaron varios años para que la litografía EUV fuera apta para un uso prolongado, entre otras cosas frente a las impurezas causadas por las salpicaduras de estaño y el fuerte desgaste de las máscaras de exposición. Un prototipo de 15 vatios está todavía bastante lejos de eso.

Por eso, el plazo es el verdadero criterio. El director de Zeiss, Frank Rohmund, cuya empresa es la única del mundo que fabrica los espejos de alta pureza para ASML, calcula que podrían pasar hasta 15 años antes de que China fabrique en serie todos los componentes y resuelva los problemas de producción. Para la fuente de luz de Langdao Silex, esto significa que un resultado en el pabellón de la feria es un primer paso, y que si de ahí surgirán sistemas de producción se decidirá en los próximos años.